紫外臭氧清洗機(jī)的實(shí)用技術(shù)及在生產(chǎn)中的應(yīng)用范圍
更新時(shí)間:2024-02-29 點(diǎn)擊次數(shù):1396
隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,紫外線表面清潔技術(shù)在上被提出。1970年代中期,美國(guó)電子技術(shù)和設(shè)備實(shí)驗(yàn)室使用紫外線清潔石英晶片,并取得了令人滿意的結(jié)果。但是,在美國(guó),紫外臭氧清洗機(jī)技術(shù)長(zhǎng)期以來一直主要用于領(lǐng)域的研究中。直到1990年代初,日本和美國(guó)先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程中,并在需要技術(shù)保密的情況下,開始向中國(guó)的外資LCD公司提供UV光清洗機(jī)。
隨后,在日本開發(fā)紫外線表面清潔技術(shù)的同時(shí),還開發(fā)了紫外線表面改性技術(shù)。二十世紀(jì)末,日本的先進(jìn)工業(yè)國(guó)家如紫外線表面清潔和升級(jí)技術(shù)逐漸從信息產(chǎn)業(yè)擴(kuò)展到金屬,塑料,橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。在1990年代后期,中國(guó)的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度迅速發(fā)展,特別是平板顯示技術(shù)的迅速發(fā)展。LCD屏幕從TN級(jí)別持續(xù)提高到STN和TFT。新型OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場(chǎng)。結(jié)果,制備過程的表面質(zhì)量要求變得越來越嚴(yán)格,紫外線表面清潔技術(shù)的*性已得到廣泛認(rèn)可,并且對(duì)紫外臭氧清洗機(jī)的需求也在不斷增加。
1.在LCD和OLED的生產(chǎn)中,在施加光致抗蝕劑,PI膠,取向膜,鉻膜和彩色膜之前先用紫外臭氧清洗機(jī)進(jìn)行光清潔,可以大大提高基板表面的潤(rùn)濕性并增強(qiáng)基板表面的附著力;
2.大型集成電路的密度越來越高,晶格越來越密,并且要求表面的清潔度越來越高。輕度清潔可以有效地實(shí)現(xiàn)表面原子清潔度,并且不影響芯片表面。會(huì)造成損壞。
3.在印刷電路板的生產(chǎn)中,紫外臭氧清洗機(jī)對(duì)銅基板和印刷基板進(jìn)行光學(xué)清洗和改性,并在焊絲焊接之前進(jìn)行光學(xué)清洗,這樣可以增加熔焊的接觸面積并大大提高增加連接強(qiáng)度。特別是對(duì)于高精度印刷電路板,當(dāng)線間距達(dá)到亞微米水平時(shí),光清洗可以輕松地去除線間距之間的非常小的顆粒,這可以大大提高印刷電路板的質(zhì)量。
紫外燈類型 | 低壓石英水銀蒸汽燈 |
紫外線燈的主要波長(zhǎng) | 185nm和254nm |
UV燈管尺寸 | 100x100mm |
UV燈電源 | 4000V,30mA |
UV燈壽命 | 每天使用可用8-10年 |
適用電壓 | 230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz) |
大運(yùn)行時(shí)間 | 59分59秒 |
安全 | 安全聯(lián)鎖,高溫報(bào)警,高溫?cái)嚯姟?/td> |
托盤尺寸 | 120x120mm |
大樣品尺寸 | 100x100mm |
總尺寸 | 長(zhǎng)204mm、高227mm、寬300mm |