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  • 隨著社會的發(fā)展及技術的需要,工業(yè)生產(chǎn)對生產(chǎn)材料的要求也不斷增強,如在微電子封裝工藝中,電子設備的小型化、高精度,對封裝工藝的可靠性提出了相應的要求,高質(zhì)量的封裝技術可以提高電子產(chǎn)品的使用壽命。等離子清洗機是利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法...
  • 等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團電離產(chǎn)生的離子化氣體狀物質(zhì),具有比氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)物質(zhì)都高的能量范圍,被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體,在與材料表面撞擊時會將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子...
  • 石墨消解儀具有消解快速、方便等優(yōu)點,適用于農(nóng)業(yè)、林業(yè)、環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)以及高等院校、科研部門對土壤、食品飼料、植株、種子、礦石等化學分析之前的樣品消解處理。石墨消解儀的核心部件是一塊預先制作了若干孔位的石墨塊,石墨塊上預制...
  • 高壓消解罐又叫水熱合成反應釜,是化學實驗室常用的小型高壓消解反應器。主要用于快速消解難溶樣品,也可用于少量的合成反應。在密閉環(huán)境中,樣品在強酸強堿和高溫高壓同時作用下達到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內(nèi)高溫高壓密封體系(強酸或強堿)的...
  • 勻膠旋涂儀一般包括托盤安裝于腔室內(nèi)部,用于吸附基片;噴嘴,延伸入腔室內(nèi)部,用于將去離子水、有機溶劑或光刻膠噴射到基片上;微波發(fā)生裝置,安裝于腔室側(cè)壁,用于產(chǎn)生微波對基片提供熱量;溫控系統(tǒng),安裝于腔室上壁,用于控制微波發(fā)生裝置以設定微波加熱的...
  • 勻膠旋涂儀操作簡單,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,占地空間小,為實驗室提供了理想的解決方案。可用于實驗室項目建設.作為用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝,科研、教學之用。勻膠旋涂儀的使用注意事項:1.使用前主要檢查設備與真空...
  • 紫外臭氧清洗機提供一種簡單,經(jīng)濟,快速獲得超潔凈的表面,去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。作用是通過紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機物氧化祛除,以達到清潔的效果。同時改變了襯底表面的親疏水性...
  • 勻膠旋涂儀的運行可以按基片旋轉(zhuǎn)速度及膠質(zhì)的變化,分為4個階段:滴膠,加速旋轉(zhuǎn),勻速旋轉(zhuǎn)以及去邊,其中第3階段勻速旋轉(zhuǎn)階段是膠質(zhì)涂層厚度和均勻性控制的重要階段。在滴膠前,膠質(zhì)需經(jīng)過亞微米級別的過濾處理,否則薄膜有可能形成彗星圖,星狀圖,或產(chǎn)生...
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